產品分類
- 磁控濺射鍍膜儀
- 熱蒸發鍍膜儀
- 高溫熔煉爐
- 等離子鍍膜儀
- 可編程勻膠機
- 涂布機
- 等離子清洗機
- 放電等離子燒結爐
- 靜電紡絲
- 金剛石切割機
- 快速退火爐
- 晶體生長爐
- 真空管式爐
- 旋轉管式爐
- PECVD氣相沉積系統
- 熱解噴涂
- 提拉涂膜機
- 二合一鍍膜儀
- 多弧離子鍍膜儀
- 電子束，激光鍍膜儀
- CVD氣相沉積系統
- 立式管式爐
- 1200管式爐
- 高溫真空爐
- 氧化鋯燒結爐
- 高溫箱式爐
- 箱式氣氛爐
- 高溫高壓爐
- 石墨烯制備
- 區域提純爐
- 微波燒結爐
- 粉末壓片機
- 真空手套箱
- 真空熱壓機
- 培育鉆石
- 二硫化鉬制備
- 高性能真空泵
- 質量流量計
- 真空法蘭
- 混料機設備
- UV光固機
- 注射泵
- 氣體分析儀
- 電池制備
- 超硬刀具焊接爐
- 環境模擬試驗設備
- 實驗室產品配件
- 實驗室鍍膜耗材
- 其他產品
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真空磁控濺射鍍膜系統 真空磁控濺射鍍膜系統主要由濺射真空室、永磁磁控濺射靶（三個靶）、單基片加熱臺、直流電源、射頻電源、工作氣路、抽氣系統、真...
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可程控磁控濺射鍍膜儀 可程控磁控濺射鍍膜儀為單腔室結構，主要由濺射真空室、磁控濺射靶、離子轟擊、公轉基片臺、光加熱系統、濺射電源、工作氣路、真...
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高真空磁控濺射鍍膜儀 高真空磁控濺射鍍膜儀主要由濺射真空室、磁控濺射靶、基片水冷加熱公轉臺、工作氣路、抽氣系統、安裝機臺、真空測量及電控系統等...
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單室磁控濺射鍍膜儀 單室磁控濺射鍍膜儀主要由濺射真空室、磁控濺射靶、基片水冷加熱臺、工作氣路、抽氣系統、真空測量、電控系統及安裝機臺等部分組...
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CY-in-line磁... CY-in-line磁控濺射系統主要由進樣室、濺射室、出樣室、基片傳遞機構、抽氣及真空測量系統、氣路系統、電控系統、安裝...
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雙靶高真空磁控等離子濺... 雙靶高真空磁控等離子濺射鍍膜儀緊湊型磁控濺射系統，具有雙靶2"目標源，例如，一個直流源用于涂覆金屬薄膜，另一個射頻源用于...
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3靶緊湊型磁控濺射鍍膜... 3靶緊湊型磁控濺射鍍膜儀是一種三頭1"射頻等離子體磁控濺射系統，設計用于非金屬薄膜涂層，主要用于多層氧化物薄膜。3靶緊湊...
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非導電薄膜等離子磁控濺... 非導電薄膜等離子磁控濺射鍍膜儀是一款緊湊型2英寸單頭射頻等離子磁控濺射系統，涂有非金屬，主要是氧化物薄膜。非導電薄膜等離...
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大功率直流磁控濺射鍍膜... 大功率直流磁控濺射鍍膜儀是一款高功率臺式磁控等離子濺射鍍膜機 ，帶有一個水冷2英寸靶頭，冷水機和可旋轉樣品架。大功率直流...
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單靶磁控濺射鍍膜儀 本單靶磁控濺射鍍膜儀配有一套磁控靶、一套300W的RF濺射電源(或一套500W的直流濺射電源或一套100W的偏壓電源）。...
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三靶磁控濺射鍍膜儀 產品簡介：CY-600-3HD三靶磁控濺射鍍膜儀是我公司自主研制開發的一款性價比較高的磁控濺射鍍膜儀，可用于制備單層或多...
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雙靶磁控濺射鍍膜儀 雙靶磁控濺射鍍膜儀CY-600-2HD為我公司研發的配有兩個靶位的小型實驗室用鍍膜儀，可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導電...
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四英寸四靶靶磁控濺射鍍... 用于金屬+非金屬 鈦膜、金膜、鉻膜、二氧化硅薄膜生長多層薄膜的制備，在電子領域、光學領域、有機物等領域均有應用，也可實驗...
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控溫真空閃蒸儀 控溫真空閃蒸儀，是一款小型的桌面式設備，在設定溫度環境下快速抽真空低壓下加速溶劑揮發，輔助成膜結晶的物理過程，對各種基板...
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卷對卷纖維連續性蒸發鍍... 卷對卷纖維連續性蒸發鍍膜儀是一款專為柔性纖維基材研發的真空連續鍍膜智能化設備，基于卷對卷（R2R）真空蒸發鍍膜核心工藝，...
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桌面型多源蒸發鍍膜儀 蒸發鍍膜儀應用于金屬和介電膜,薄膜傳感器的制造,光學元件,納米與微電子,太陽能電池.
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桌面型三源蒸發鍍膜儀 熱蒸發鍍膜儀的物理過程主要包括材料的蒸發、氣態粒子的輸運以及在基底上的沉積成膜。在蒸發過程中，材料需要獲得足夠的熱能以克...
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高真空三源熱蒸發鍍膜儀 三源高真空蒸發鍍膜儀應用領域：金屬和介電膜 ，薄膜傳感器的制造 ，光學元件 ，納米與微電子 ，太陽能電池等
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桌面型有機源蒸發鍍膜儀 熱蒸發鍍膜儀的物理過程主要包括材料的蒸發、氣態粒子的輸運以及在基底上的沉積成膜。在蒸發過程中，材料需要獲得足夠的熱能以克...
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桌面型不銹鋼腔體熱蒸發... 熱蒸發鍍膜儀的物理過程主要包括材料的蒸發、氣態粒子的輸運以及在基底上的沉積成膜。在蒸發過程中，材料需要獲得足夠的熱能以克...
