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本設備為桌面型單靶磁控鍍膜儀。設備經過小型化設計，將設備外形限制在了桌面級別，大大減少了安裝場地需求。設備配有一個直流電源，能夠用于濺射金屬材料，具有速度快溫升低等特點。
單靶磁控鍍膜儀技術參數：
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桌面型單靶磁控鍍膜儀 |
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樣品臺 |
尺寸 |
φ100mm |
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工作溫度 |
RT≤300℃ |
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轉速 |
0-20rpm |
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磁控濺射靶 |
數量 |
2” x1 |
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真空腔體 |
腔體尺寸 |
φ180mm X 200mm |
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觀察窗口 |
全向透明 |
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腔體材料 |
高純石英 |
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開啟方式 |
上蓋拆卸式 |
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真空系統 |
機械泵 |
旋片泵 |
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分子泵 |
渦輪分子泵 |
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真空測量 |
復合真空計 |
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抽氣接口 |
KF16 |
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抽氣接口 |
KF40 |
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排氣接口 |
KF16 |
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濺射真空 |
DC:0.3Pa |
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供電電源 |
AC 220V 50/60Hz |
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抽氣速率 |
機械泵1.1L/s 分子泵600L/s |
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電源配置 |
數量 |
直流電源 x1 |
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*大輸出功率 |
直流電源50W |
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其他 |
供電電壓 |
AC220V,50Hz |
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整機功率 |
2kW |
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整機尺寸 |
550mm X 350mm X400mm |
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