一、 產(chǎn)品概述

本款三靶磁控濺射鍍膜儀是鄭州成越科學儀器自主研發(fā)的高真空薄膜沉積設備，配備 3 個獨立濺射靶材，采用直流 / 射頻磁控濺射技術，在高真空環(huán)境下，利用高能等離子轟擊靶材，將靶材原子濺射到基片表面形成均勻致密薄膜。設備集成獨立靶電源、高精度真空系統(tǒng)、智能觸控控制系統(tǒng)，支持多元素共濺射、順序濺射，可實現(xiàn)金屬、半導體、氧化物等多種薄膜制備，是實驗室科研與小批量試樣鍍膜的理想設備。

二、產(chǎn)品功能

三靶獨立濺射：3 個靶位可單獨控制，支持單靶濺射、順序濺射、共濺射，制備單層膜、多層膜、復合合金薄膜。

多種濺射模式：兼容 DC 直流濺射、RF 射頻濺射，適配金屬靶、絕緣氧化物靶。

高精度真空控制：機械泵 + 分子泵真空機組，高真空腔體，減少薄膜雜質，提升膜層質量。

基片溫控與旋轉：樣品臺支持加熱 / 水冷，樣品勻速旋轉，保證薄膜厚度均勻性。

智能觸控操作系統(tǒng)：電腦 + 觸摸屏雙控制，實時監(jiān)控真空、功率、溫度、鍍膜時間，可存儲鍍膜工藝配方。

氣體流量精準調控：質量流量計控制氬氣、氧氣等工藝氣體，氣氛可控，制備氧化薄膜。

anquan連鎖保護：真空聯(lián)鎖、過載、缺水、急停保護，保障設備與人身anquan。

三、 應用領域

科研院所、高校實驗室：材料科學、半導體、光學、新能源方向薄膜研究

半導體行業(yè)：金屬電極薄膜、導電薄膜、鈍化層制備

光學領域：光學增透膜、反射膜、濾光片薄膜

新能源：鈣鈦礦電池、薄膜電池、電極薄膜、催化薄膜

表面工程：樣品表面改性、耐磨耐腐蝕涂層

MEMS、傳感器：功能敏感薄膜制備

四、技術參數(shù)

五、 核心優(yōu)勢

三靶獨立控制，靈活切換工藝，可制備多層、合金復合薄膜，一機多用。

高真空不銹鋼腔體，泄漏率低，成膜純度高、致密均勻。

模塊化設計，靶材、電源、樣品臺均可按需定制。

可視化鍍膜觀察窗，鍍膜過程直觀查看。

全工藝自動化記錄，方便科研論文數(shù)據(jù)溯源。

完善**保護，急停按鈕、真空聯(lián)鎖，操作**。

六、FAQ

Q1：靶材支持哪些類型？

A：金屬靶（Cu, Al, Au, Ti）、陶瓷氧化物靶（ITO、ZnO、Al?O?），DC 適合金屬，RF 適合絕緣靶。

Q2：樣品*大尺寸是多少？

A：標配 φ100mm 樣品臺，可定制更大樣品基座。

Q3：能否同時開啟三個靶共濺射？

A：支持，三路靶電源獨立調節(jié)功率，實現(xiàn)共濺射制備合金薄膜。

Q4：設備是否包含水冷機？

A：水冷機屬于選配，靶材大功率濺射時建議配套水冷。

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